近日，我公司昆山普樂斯電子科技有限公司（以下簡稱“普樂斯電子”）自主研發(fā)的《一種等離子體處理裝置》成功獲得國家知識產權局頒發(fā)的實用新型專利授權。這標志著公司在等離子體表面處理設備技術領域再添一座堅實的技術砝碼，進一步鞏固了我們在行業(yè)中的差異化競爭優(yōu)勢。

創(chuàng)新研發(fā)始終是普樂斯電子驅動企業(yè)發(fā)展的第一引擎。自公司成立以來，我們持續(xù)深耕等離子體技術應用領域，已先后推出轉鼓式、抽屜式、寬幅大氣槍等多種低溫等離子體表面處理設備，產品矩陣覆蓋醫(yī)療器械、電子元器件、半導體封裝、汽車制造、航空航天等眾多行業(yè)。截至目前，公司已累計獲得數(shù)十項發(fā)明專利、實用新型專利及軟件著作權，并建立了規(guī)范化的研發(fā)與知識產權管理體系。

持續(xù)創(chuàng)新

在普樂斯，一款新專利的誕生，從來不是“為了創(chuàng)新而創(chuàng)新”，而是為了交付一臺真正能跑通客戶工藝參數(shù)的、更高效、更穩(wěn)定、更智能的等離子體處理設備。每一項專利技術的背后，都凝聚著研發(fā)團隊夜以繼日的方案設計與反復驗證，以及對電極結構、反應腔體布局、氣流通道等核心部件開展的系統(tǒng)化尋優(yōu)及改進。

讓專利技術賦能真實生產線

對于工業(yè)制造企業(yè)而言，等離子體處理設備的最終價值不僅在于“技術參數(shù)有多漂亮”，更在于“在產線上是否真正好用”。普樂斯十分注重將專利技術成果進行快速轉化，形成具備高工藝適應性的系列量產設備。

作為低溫等離子體應用技術領域的國家高新技術企業(yè)，普樂斯電子憑借長期積累的工藝數(shù)據(jù)庫和貼身售后體系，幫助客戶實現(xiàn)更加穩(wěn)定可控的生產節(jié)拍及批量產品品質一致性。

以自主研發(fā)為核

本次《一種等離子體處理裝置》專利的正式獲權，不僅進一步擴充了公司核心技術資產庫，更為公司的真空等離子清洗機及大氣常壓處理設備在未來的升級換代方面儲備了新的核心元件及技術潛力。它代表著普樂斯在等離子體處理裝備總體架構領域實現(xiàn)了一次從基礎結構到多場景工藝適應性的重要技術跨越，為企業(yè)成功切入更為尖端的細分賽道儲備了關鍵的創(chuàng)新動能。